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        新加坡的研究人员利用微转移印刷技术将图案化的铌酸锂调制器转移到硅衬底上。[3] 微转移印刷技术使用PDMS印章将单个器件从生长晶圆上拾取并放置到目标衬底上,从而避免了直接在硅上生长所带来的污染风险。然而,CPO和OIO应用通常还是会选择硅谐振器。硅谐振器利用加热器来调节掺杂硅环的折射率。   

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